在設計光敏印墊機械壓緊裝置時，鄭州刻章建議要壓力均勻且壓力足夠，并且能夠適應不同厚度的光敏墊。

光敏印墊在曝光時不僅受到足夠的強光照射，印墊本身的厚度還需要被壓縮到一定的尺寸，這樣才能夠有較好的曝光效果。

光敏墊的厚度一般在3毫米-7毫米之間，壓緊時一般需要將其厚度壓縮至原厚度的一半左右，如7毫米的印墊需壓縮至3-4毫米左右才能保證有較好的曝光效果。

同時設計一個外形美觀，適用方便、成本合適的壓緊裝置對提高光敏印章的制作質(zhì)量是至關重要的，所以光敏印墊小于7毫米做出來的印墊也是不太好。