CMP拋光液利用“軟磨硬”的原理很好的實(shí)現(xiàn)了藍(lán)寶石表面的精密拋光。隨著LED行業(yè)的快速發(fā)展，聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。

CMP技術(shù)綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì)：?jiǎn)渭兊幕瘜W(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，平整性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機(jī)械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深。化學(xué)機(jī)械拋光可以獲得較為平整的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個(gè)數(shù)量級(jí)，是能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的有效方法。

拋磨的另外一個(gè)功效是可將車(chē)漆表面細(xì)小的軟道劃痕磨平。 振拋封釉 這是汽車(chē)封釉美容的關(guān)鍵步驟。在專(zhuān)用振拋機(jī)的擠壓下，晶亮釉被深深壓入車(chē)漆的毛孔之內(nèi)，形成牢固的網(wǎng)狀保護(hù)層，附著在車(chē)漆表面。保護(hù)劑中富含UV紫外線(xiàn)防護(hù)劑，可以大大降低日曬輻射，并可抵御酸堿等化學(xué)成份的侵蝕。 無(wú)塵打磨 后用無(wú)塵紙打磨一遍車(chē)身，可讓車(chē)漆如鏡面般光亮。

拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。 拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面，即解吸過(guò)程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來(lái)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過(guò)程。