現(xiàn)在，在許多電鍍廠中，與傳統(tǒng)的電鍍工藝相比，真空電鍍加工技術(shù)具有三個(gè)主要優(yōu)點(diǎn)：
1、廣泛的累積數(shù)據(jù)：它能夠累積鋁，鈦，鋯等低電位金屬，這些金屬不能通過濕法電鍍來累積，并且能夠通過反響氣體和合金靶累積從合金到陶瓷乃至鉆石的涂層， 需求計(jì)劃涂層體系。
2、節(jié)省金屬材料：因?yàn)檎婵胀繉拥母街?，密度，硬度，耐蝕性等都非常好，因此所堆積的真空電鍍涂層能夠比傳統(tǒng)的濕式電鍍涂層小得多，然后達(dá)到了節(jié)省的目的。
3、無環(huán)境污染：現(xiàn)在國家大力發(fā)起出產(chǎn)環(huán)境保護(hù)，因?yàn)橐磺型繉硬牧暇谡婵窄h(huán)境中通過等離子體堆積在工件外表，因此沒有溶液污染，因此對(duì)環(huán)境的破壞是適當(dāng)?shù)男 ?
可是，因?yàn)橛糜谌〉谜婵蘸偷入x子的儀器和設(shè)備精密而寶貴，并且累積技術(shù)仍在少量技術(shù)人員的手中，因此發(fā)起的技術(shù)人員并不多，因此他們的出資和日常的出產(chǎn)和維護(hù)本錢貴重?？墒?，跟著社會(huì)的不斷進(jìn)步，真空電鍍加工技術(shù)的優(yōu)勢(shì)將越來越明顯，在某些工作中取代傳統(tǒng)的濕法電鍍已成為大勢(shì)所趨。
現(xiàn)在，在許多電鍍廠中，與傳統(tǒng)的電鍍工藝相比，真空電鍍加工技術(shù)具有三個(gè)主要優(yōu)點(diǎn)：
1、廣泛的累積數(shù)據(jù)：它能夠累積鋁，鈦，鋯等低電位金屬，這些金屬不能通過濕法電鍍來累積，并且能夠通過反響氣體和合金靶累積從合金到陶瓷乃至鉆石的涂層， 需求計(jì)劃涂層體系。
2、節(jié)省金屬材料：因?yàn)檎婵胀繉拥母街?，密度，硬度，耐蝕性等都非常好，因此所堆積的真空電鍍涂層能夠比傳統(tǒng)的濕式電鍍涂層小得多，然后達(dá)到了節(jié)省的目的。
3、無環(huán)境污染：現(xiàn)在國家大力發(fā)起出產(chǎn)環(huán)境保護(hù)，因?yàn)橐磺型繉硬牧暇谡婵窄h(huán)境中通過等離子體堆積在工件外表，因此沒有溶液污染，因此對(duì)環(huán)境的破壞是適當(dāng)?shù)男 ?
可是，因?yàn)橛糜谌〉谜婵蘸偷入x子的儀器和設(shè)備精密而寶貴，并且累積技術(shù)仍在少量技術(shù)人員的手中，因此發(fā)起的技術(shù)人員并不多，因此他們的出資和日常的出產(chǎn)和維護(hù)本錢貴重?？墒牵鐣?huì)的不斷進(jìn)步，真空電鍍加工技術(shù)的優(yōu)勢(shì)將越來越明顯，在某些工作中取代傳統(tǒng)的濕法電鍍已成為大勢(shì)所趨。
什么是電鍍?cè)O(shè)備?其實(shí)沒有我們想的那么凌亂。電鍍廠在出產(chǎn)過程中，可以分為鍍前表面處理、電鍍處理和鍍后處理。因此我們將上述的過程中需要用到的設(shè)備叫過電鍍?cè)O(shè)備。
鍍前表面處理的主要工序有磨光、拋光、刷光、滾光、噴砂、去油、去銹、腐蝕、中和以及清洗等。針對(duì)零件材料、形狀、表面情況和加工要求，選擇其間適當(dāng)?shù)膸讉€(gè)過程，對(duì)零件表面進(jìn)行必要的修整加工，使零件具有平整光亮的表面，這是能否獲得優(yōu)質(zhì)鍍層的重要環(huán)節(jié)。鍍前處理工藝中，所用的主要設(shè)備有磨、拋光機(jī)，刷光機(jī)，噴砂機(jī)，滾光機(jī)和各類固定槽。
電鍍處理是整個(gè)出產(chǎn)過程中的主要工藝。依據(jù)零件的要求，有針對(duì)性選擇某一種或幾種單金屬或合金電鍍工藝對(duì)零件進(jìn)行電鍍或浸鍍等加工，以抵達(dá)防蝕、耐磨和漂亮的意圖。電鍍處理過程中所用的設(shè)備主要有各類固定槽、滾鍍槽、掛具、吊籃等。
鍍后處理是對(duì)零件進(jìn)行拋光、出光、鈍化、著色、枯燥、封閉、去氫等工作，依據(jù)需要選用其間一種或數(shù)種工序使零件契合質(zhì)量要求。鍍后處理常用設(shè)備主要有磨、拋光機(jī)，各類固定槽等。
真空電鍍加工是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。
加熱金屬的方法：有利用電阻產(chǎn)生的熱能，也有利用電子束的。
在對(duì)塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí)，為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形，必須對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。此外，熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。
置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。
在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等)，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對(duì)于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合，則要求壓力更低( 10-5Pa )。