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硅片如何利用的呢？具體流程介紹如下：切片：將單晶硅棒切成具有幾何尺寸的薄硅片。此過(guò)程中產(chǎn)生的硅粉采用水淋，產(chǎn)生廢水和硅渣都可以利用。退火：雙工位熱氧化爐經(jīng)氮?dú)獯祾吆?，用紅外加熱至300~500℃，硅片表面和氧氣發(fā)生反應(yīng)的材料，使硅片技術(shù)表面形成二氧化硅再次生產(chǎn)。倒角：將退火的硅片進(jìn)行修整成圓弧形，防止硅片邊緣破裂及晶格缺陷產(chǎn)生，增加磊晶層及光阻層的平坦度。此過(guò)程中產(chǎn)生的硅片廢水和硅渣。硅片再利用一直秉承“變廢為寶、凈化環(huán)境”的理念，融合專業(yè)的服務(wù)體系和先進(jìn)的再加工技術(shù)，為國(guó)家的環(huán)保事業(yè)，做出著應(yīng)有的貢獻(xiàn)。

目前硅片的生產(chǎn)已經(jīng)采用多線鋸切割方法，可以生產(chǎn)出面積較大（25cm×25 cm）而厚度又相對(duì)較薄的硅片，但是在此方法的操作過(guò)程中，金屬絲要受到多種力的激勵(lì)，還要受到機(jī)械結(jié)構(gòu)的影響，就不可避免的在切割過(guò)程中產(chǎn)生變形與振動(dòng)，瞬間性的沖擊就會(huì)作用在切割的硅片上。為了避免此現(xiàn)象的發(fā)生硅片的切割厚度也從300μm左右進(jìn)一步降低，爭(zhēng)取實(shí)現(xiàn)低成本高線切割及減少切縫損耗，但是難度是相當(dāng)?shù)拇蟆Ｒ虼藢?shí)現(xiàn)太陽(yáng)能晶硅電池行業(yè)生產(chǎn)效率的提高及生產(chǎn)成本的降低，對(duì)于開(kāi)展寸超薄硅片切割方法的開(kāi)拓與創(chuàng)新研究是勢(shì)在必行的。