鍍硬鉻層的耐磨性能與其硬度息息相關(guān)，通常硬度越高，耐磨性能越好。硬鉻層的硬度與電鍍時(shí)的溫度、電流密度和溶液成分有關(guān)。當(dāng)鍍液中鉻酐含量固定時(shí)，硫酸根含量升高會(huì)使得鍍層硬度下降。

鍍液溫度越高，硬度越低；電流密度越高，硬度越高。由于高硬度和高應(yīng)力（脆性）往往是相關(guān)的，因而鍍硬鉻層的硬度不宜過(guò)高。將鍍液溫度控制在35～55℃之間，將電流密度控制在30～50A/dm2 之間，可獲得滿足空客鍍鉻層硬度技術(shù)要求（≥700HV）的鍍鉻層。

鍍液配制

在清洗過(guò)的鍍槽子內(nèi)加入三分之二的蒸餾水或去離子水，并加熱至55-60℃；

將計(jì)算量的鉻酐（250克/升）緩慢加入槽內(nèi)，攪拌使其全部溶解；

加入RC-25K開缸劑20毫升/升；

分析所含硫酸濃度，并調(diào)整至2.7克/升；

加入適量的鉻霧抑制劑；

電解4-6小時(shí)，便可開始試鍍。

電鍍生產(chǎn)線適用于貴金屬電鍍，如鍍鎳、鍍銀、鍍金等，包括整套工藝的電鍍槽、水槽以及生產(chǎn)線周邊的電鍍?cè)O(shè)備（包括整流電源、高精度耐酸堿電鍍過(guò)濾機(jī)、隧道烘干爐、燃油加熱爐、工業(yè)純水機(jī)、冷凍機(jī)以及廢氣處理抽風(fēng)系統(tǒng)）。

手動(dòng)電鍍生產(chǎn)線設(shè)計(jì)布局靈活，占地面積較小，可同時(shí)具有2至3個(gè)工藝流程，能滿足多種零件的電鍍工藝。