電鍍生產(chǎn)線適用于貴金屬電鍍，如鍍鎳、鍍銀、鍍金等，包括整套工藝的電鍍槽、水槽以及生產(chǎn)線周邊的電鍍設(shè)備（包括整流電源、高精度耐酸堿電鍍過濾機(jī)、隧道烘干爐、燃油加熱爐、工業(yè)純水機(jī)、冷凍機(jī)以及廢氣處理抽風(fēng)系統(tǒng)）。 手動電鍍生產(chǎn)線設(shè)計布局靈活，占地面積較小，可同時具有2至3個工藝流程，能滿足多種零件的電鍍工藝。

工藝特點 陰極電流電流效率高，可達(dá)22-26% 可使用電流密度高達(dá)60安培/平方分米以上，沉積速度因此極大提高 與其它的混合催化劑鍍鉻工藝不同，RC-25不含氟化物，不會浸蝕工件的低電流區(qū) 鍍層的顯微硬度達(dá)1000-1100KHN100鍍層的微裂紋數(shù)可達(dá)1000條/英寸，防腐蝕能力因而提高 鍍層平滑，細(xì)致光亮 鍍層厚度均勻，減少高電流密度之過厚沉積 不會浸蝕鉛錫陽極，無需使用特殊陽陰極材料 前處理流程、陽極、鍍槽等均與一般傳統(tǒng)鍍鉻工藝一樣

這是由于電鍍硬鉻時的電流密度很大，所得鍍硬鉻層的表面存在著大量微裂紋，經(jīng)過HA油除氫處理，可以使微裂紋得以填充，從而有效阻滯環(huán)境中的腐蝕介質(zhì)滲入，進(jìn)而提高了硬鉻層的抗鹽霧腐蝕性能。空客要求鍍硬鉻層需通過750h鹽霧腐蝕試驗，可以認(rèn)為，采取HA油除氫處理完全可以使鍍硬鉻層滿足該要求 [3] 。

在實際的電鍍生產(chǎn)過程中，為控制鍍鉻層厚度，改善外圓鍍鉻零件的鍍層均勻性，常采用筒形電鍍陽極，并在電鍍過程中定時對合金鋼零件進(jìn)行翻面和調(diào)換位置，以保證獲得的鍍硬鉻層均勻、細(xì)致。