單層鉻鍍層只有達(dá)到相當(dāng)厚度時(shí)，才具有較好的耐腐蝕性。不過(guò)，當(dāng)鉻鍍層厚度達(dá)到65μm 以上時(shí)，再增加厚度并不會(huì)進(jìn)一步改善其耐蝕性能。一般來(lái)說(shuō)，電鍍時(shí)間對(duì)硬鉻層厚度的影響很大，而電鍍時(shí)間的選擇，取決于鍍液主鹽濃度、溫度、電流等工藝條件。

電鍍時(shí)，鍍層金屬做陽(yáng)極，被氧化成陽(yáng)離子進(jìn)入電鍍液；待鍍的金屬制品做陰極，鍍層金屬的陽(yáng)離子在金屬表面被還原形成鍍層。為排除其它陽(yáng)離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽(yáng)離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽(yáng)離子的濃度不變。

陽(yáng)極的金屬形成金屬離子進(jìn)入電鍍液，以保持被鍍覆的金屬離子的濃度。在有些情況下，如鍍鉻，是采用鉛、鉛銻合金制成的不溶性陽(yáng)極，它只起傳遞電子、導(dǎo)通電流的作用。

電解液中的鉻離子濃度，需依靠定期地向鍍液中加入鉻化合物來(lái)維持。電鍍時(shí)，陽(yáng)極材料的質(zhì)量、電鍍液的成分、溫度、電流密度、通電時(shí)間、攪拌強(qiáng)度、析出的雜質(zhì)、電源波形等都會(huì)影響鍍層的質(zhì)量，需要適時(shí)進(jìn)行控制。

經(jīng)過(guò)拋光的裝飾鉻層對(duì)光有很高的反射能力，可用作反光鏡。在多層鎳上鍍微孔或微裂紋鉻，是降低鍍層總厚度，獲得高耐蝕性防護(hù)一裝飾體系的重要途徑，也是現(xiàn)代電鍍工藝的發(fā)展方向。