潔凈室的發(fā)展與現(xiàn)代工業(yè)、技術(shù)密切聯(lián)系在一起。由于精密機(jī)械工業(yè)（如陀螺儀、微型軸承等加工）、半導(dǎo)體工業(yè)（如大規(guī)模集成電路生產(chǎn)）等對(duì)環(huán)境的要求，促進(jìn)了潔凈室技術(shù)的發(fā)展。國(guó)內(nèi)曾統(tǒng)計(jì)過，在無潔凈級(jí)別的要求的環(huán)境下生產(chǎn)MOS電路管芯的合格率僅10%~15%，64位儲(chǔ)存器僅2%。目前在精密機(jī)械、半導(dǎo)體、宇航、原子能等工業(yè)中應(yīng)用潔凈室已相當(dāng)普遍。

潔凈室要達(dá)到潔凈等級(jí)，必須有綜合措施，其中包括工藝布置、建筑平面、建筑構(gòu)造、建筑裝修、人員和物料凈化、空氣潔凈措施、維護(hù)管理等。其中空氣潔凈措施是實(shí)現(xiàn)潔凈等級(jí)的根本保證。

工作區(qū)的氣流應(yīng)均勻，流速必須滿足工藝和衛(wèi)生的要求；潔凈氣流應(yīng)盡可能把工作部位圍罩起來，使污染物在擴(kuò)散之前便流向回風(fēng)口。

工作設(shè)備布置時(shí)要留有一定的間隔，為送、回風(fēng)口的布置和氣流的通暢創(chuàng)造條件：氣流組織設(shè)計(jì)時(shí)要考慮高大設(shè)備對(duì)氣流組織的影響。

潔凈環(huán)境是為生產(chǎn)工藝服務(wù)的，潔凈室設(shè)計(jì)必須滿足生產(chǎn)工藝的環(huán)境要求，這是理所當(dāng)然的。因此，在潔凈室設(shè)計(jì)時(shí)生產(chǎn)工藝對(duì)環(huán)境參數(shù)的要求應(yīng)該實(shí)事求是，其面積、層高，溫度、濕度，潔凈度等應(yīng)該該高則高，該低則低，并非越高越好。在不影響生產(chǎn)工藝正常運(yùn)行的前提下盡可能地降低參數(shù)要求，控制凈化面積，縮小高凈化級(jí)別潔凈區(qū)的范圍，嚴(yán)格控制100級(jí)和更高級(jí)別單向流潔凈區(qū)的面積。