主流回收工藝分類 當前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學法和聯(lián)合工藝三類： 熔煉過濾法（物理法） 通過高溫熔煉結合篩網過濾實現(xiàn)銦與其他金屬的分離。具體流程包括： 廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網（30-40目）截留固態(tài)雜質鐵、鋁。 熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。 該方法具有設備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優(yōu)勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質金屬可能熔化導致純度下降至95%以下。

劑萃取法（化學法） 以濕法冶金為基礎，通過P204萃取劑選擇性富集銦： 含銦物料經硫酸浸出后，在pH=1.5-2.0條件下進行三級逆流萃取，銦萃取率可達98%。 該工藝對低品位原料（含銦0.02%）適用性強，但存在試劑消耗大（硫酸用量2-3噸/噸銦）、廢水處理成本高的問題。

ITO靶材，即銦錫氧化物靶材，主要由氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）組成，其中氧化銦占比高達90%。ITO靶材因其優(yōu)異的導電性和高透光性，成為液晶顯示器（LCD）、觸摸屏及太陽能電池等光電設備的理想材料。其晶體結構穩(wěn)定，電導率高，確保了設備的運行。

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