電解過程中,氧的陰離子與鋁作用產生氧化膜。這種膜初形成時還不夠細密,有一定的電阻,使電解液中的負氧離子仍能到達鋁表面繼續(xù)形成氧化膜。隨著膜厚度的增長,電阻變大,電解電流變小,而與電解液接觸的外層氧化膜同時發(fā)生化學溶解,在鋁表面形成氧化物的速度漸與化學溶解的速度平衡時,這一氧化膜便可達到這一電解參數(shù)下的厚度。鋁的陽極氧化膜的結構與其他轉化膜有所不同,靠近基體金屬部分的是0.01~0.1微米的致密層,其上是許多空心六角柱體所構成的蜂房狀層,總厚度為2~100微米不等。
電解過程中,氧的陰離子與鋁作用產生氧化膜。這種膜初形成時還不夠細密,有一定的電阻,使電解液中的負氧離子仍能到達鋁表面繼續(xù)形成氧化膜。隨著膜厚度的增長,電阻變大,電解電流變小,而與電解液接觸的外層氧化膜同時發(fā)生化學溶解,在鋁表面形成氧化物的速度漸與化學溶解的速度平衡時,這一氧化膜便可達到這一電解參數(shù)下的厚度。鋁的陽極氧化膜的結構與其他轉化膜有所不同,靠近基體金屬部分的是0.01~0.1微米的致密層,其上是許多空心六角柱體所構成的蜂房狀層,總厚度為2~100微米不等。
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